탄탈 룸 대상

탄탈 룸 대상

탄탈 룸 표적은 다양한 물리 실험, 재료 과학 연구 및 산업 응용 분야에서 일반적으로 사용되는 탄탈 룸 금속으로 만들어진 대상입니다. . 탄탈 룸 표적은 고온, 높은 전도도 및 부식 저항의 특성을 가지고 있으며, 이는 고온, 고전도 및 고전성 및 부식성 환경에서 우수한 성능을 보여줍니다.
우리는 고순도, 고성능 탄탈 룸 대상 . 탄탈 룸 목표 가격 양보 .을 제공합니다.
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설명
제품 설명
 

사양 범위 : ({10-20) mm x (200-1450) mm x는 3000 mm보다 작거나 동일합니다.
공급 된 제품의 사양 : 9.5mm x 160mm x 925mm

15mm x 133mm x 778mm

19mm 200mm 2700mm
10mm × 885mm × 960mm

14mm × 1400mm × 1700mm
16mm × 1431mm × 1650mm
순도 사양 : 99.95%; 99.98%
밀도 : 10.10g/cm3보다 크거나 동일합니다
구조 : 150 미크론 미만의 평균 입자 크기, 전형적인 표적 재료 및 표면 구조
평균 경도 범위 : HV 180-200 초음파 검사 : 최대 등가 결함은 0.5mm 이하입니다.

High purity tantalum target material

01

맞춤형 서비스

다양한 요구에 맞는 맞춤형 제품 및 서비스를 제공 . 항공 우주 필드 .을 위해 고온 저항과 고강도가있는 탄탈 룸 대상 재료가 개발되었습니다.

02

기술 혁신

Advanced Nanotechnology

03

정밀 가공 기술

고급 CNC 가공, 레이저 절단 . 정확도는 ± 0 . 02mm로 증가했습니다.

04

표면 처리

양극화 및 전기 도금 도금은 내마모성을 25%, 부식성을 30% 향상시키고 서비스 수명을 20% 연장합니다.

 

티타늄 대상 재료의 주요 제조업체 인 우리의 경쟁 우위는 세심한 원료 제어 및 엄격한 생산 공정에서 비롯되며 경쟁 업체를 능가하는 우수한 품질과 성능을 보장합니다 .

 

1. 타의 추종 많은 원료 소싱
우리는 고도의 순도 잉곳을 생산하는 입증 된 실적을 가진 인증 된 광산에서 티타늄 원료를 공급합니다. . 우리의 들어오는 자료는 엄격한 다중 단계 검사 .를 겪습니다. 99 . 95% . 산소 (150ppm 미만으로 유지됨) 및 철 (50ppm 미만)과 같은 불순물에 대한이 세심한 제어는 스퍼터링 중 결함을 최소화하여 필름 오염을 줄이고 산업 표준에 비해 20%까지 향상 효율을 향상시킵니다.

 

2. 고급 및 정밀 - 구동 생산
우리의 단조 공정은 등온성 위조 기술을 사용합니다. 이는 .를 형성하는 동안 일정한 온도를 유지하는 등온성 단조 기술을 사용합니다. . 이로 인해 평균 입자 크기가 15 - 25 마이크로 미터 .의 평균 입자 크기가 전통적인 단조와 비교하여 30% 더 우수한 밀도 균일 성을 보여줍니다. 밀도 .이 균일 성은 스퍼터링 동안 아크를 크게 감소시켜 목표 수명을 25% 연장하고 필름 두께 일관성을 향상시킵니다.

가공 중에, 우리는 ± 0 . 002 mm .의 위치 정확도를 갖춘 5 개의 축 CNC 가공 센터를 채택합니다.이 높은 정밀 가공은 0 . 005 mm/m² (RA <0.2 μm) 내에서 평탄도를 보장합니다. 반도체 응용 분야에서,이 정밀도는보다 정확한 얇은 필름 증착을 허용하여 생성물 거부 속도를 15%감소시킵니다.

 

3. 엄격한 품질 보증
각 티타늄 대상은 5MHz의 빈도를 가진 초음파 테스트 (UT)를 사용하여 100% 비 - 파괴적인 테스트를 거쳐 . 이는 0 . 1 mm²의 작은 내부 결함조차도 우리 제품의 신뢰성을 보장하고, 집안의 컨트롤 컨트롤을 실현하는 것 - 우리의 성능을 실현하는 것도 실현된다. 조건 .이 포괄적 인 테스트 체제는 당사의 목표가 가장 엄격한 고객 요구 사항을 충족시켜 시장에서 경쟁력있는 우위를 제공합니다.

 

 

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일관된 품질, 향상된 성능 및 비용 - 효과적인 솔루션 .에 대한 티타늄 대상 재료를 선택하십시오. . ..

 

 

 

 

 

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