티타늄 목표

청정
순도는 대상의 주요 성능 지표 중 하나입니다. 대상의 순도는 필름의 성능 .의 성능에 큰 영향을 미치기 때문에 실제 응용 분야에서는 대상의 순도 요구 사항이 예를 들어 미생물 칩 크기의 빠른 발전으로 인해 .가 동일하지 않으며, 6 "까지의 신속한 발달이 발생했으며, 8", 8 "까지 개발되었습니다. 0 . 5um ~ 0 . 25UM, 0.18UM 또는 0.13UM, 이전 99.995% 목표 순도는 0.18UM 라인의 대상 재료의 순도를 충족 할 수 있습니다.
불순물 내용
표적 고체 및 산소 및 수증기의 불순물은 기존 필름의 주요 오염원이며, . 다른 목적을위한 다른 목적에 대한 다른 불순물에 대한 다른 요구 사항을 갖는다. . 예를 들어, 세미 조정기 산업에 사용되는 순수한 알루미늄 및 알루미늄 합금 목표에 대한 특수 요구 사항이있다.
밀도
표적 고체의 다공성을 감소시키고 스퍼터링 된 필름의 성능을 향상시키기 위해, 대상은 일반적으로 고밀도 . 대상의 밀도는 스퍼터링 속도에 영향을 줄뿐만 아니라 필름의 전기 및 광학적 특성에 영향을 미치는데도 ..}}}}}}}}}}}}}. 대상의 밀도와 강도는 스퍼터링 중에 대상이 열 응력을 견딜 수있게합니다. . 밀도는 또한 대상 재료 .의 주요 성능 지수 중 하나입니다.